Comptek Solutions成立于 2017 年，是芬兰图尔库大学的附属公司，致力于开发量子技术（品牌为 Kontrox），以提高 microLED 和激光器等设备的性能。以下是对Comptek的相关采访内容

问：您好！能介绍一下你们的公司和技术吗？

Comptek 首席执行官兼联合创始人 Vicente Calvo：Comptek Solutions 是 III-V 化合物半导体表面工程领域的先驱。我们开发了一种新型表面处理工艺 - Kontrox - 通过形成具有极低表面缺陷态密度的高质量原生结晶氧化物层，有效钝化材料表面。在 µLED 中，Kontrox 应用于芯片侧壁以防止非辐射复合机制，从而有效地钝化表面。这极大地提高了 µLED 的性能和制造产量，尤其是在芯片尺寸较小的情况下。

Q：能说说你加入microLED协会的原因以及你希望达到的目标吗？

该协会是一个完美的网络平台，为 µLED 行业的当前发展和趋势提供了极好的展望。我们特别感谢有机会与主要行业参与者建立联系。

Q：迄今为止，您在 microLED 行业面临的最大挑战和成功是什么？

对于每一个新的客户项目，我们最大的挑战仍然是相同的：为每种芯片类型初步开发定制的清洁和钝化工艺配方。由于堆栈的架构、质量和组成因客户而异，因此这项初始工作需要研发团队付出相当大的努力；但回报同样重要——一旦我们成功并获得最佳结果，芯片效率将得到极大提高。对于一些客户，与使用 ALD 涂层的传统钝化相比，我们已经实现了高达 250% 的壁塞效率提升。

图 1：EQE 与 5µm GaN µLED 中的电流密度

图 2：EQE 中 Kontrox 钝化对不同基于 GaN 的 µLED 芯片尺寸的影响以及 10µm µLED 的实际 EL 测量

Q：您能详细介绍一下您最新的原型/演示吗？

我们最近构建了第一个针对边发射激光器优化的钝化工具原型；现在我们正在与 2 个客户合作进行试点。该机器还可用于钝化非常特殊的材料组的小型基板 (2")，例如，我们也有第一位客户的光子量子应用。最近，我们获得了欧洲创新委员会的资助，我们还在建设一条试验线，将 Kontrox 与 ALD 等其他技术相结合应用于 8 英寸基板——该工具将用于 µLED 和电力电子应用。

图 3：Laser facet Kontrox 钝化工具

Q：您如何看待 microLED 在未来 5-10 年内改变显示行业？

在制造过程的不同阶段仍有许多挑战需要解决。尽管如此，对于数量和技术要求不那么高的应用程序，商业介绍越来越近了，我想我们将在 1-3 年内实现。

对于大型显示器，降低成本是关键挑战，这与低制造产量有关。但由于芯片尺寸，在这种情况下，不一定是最小的，我相信一些技术的发展，比如 Kontrox，可以帮助改善短期到中期的情况。另一方面，由于极低的良率和晶圆内以及晶圆与晶圆之间的芯片均匀性差，对于超高分辨率显示器（例如 AR/VR 应用）处理接近 1µm 的尺寸仍然非常困难。因此，提出有效的解决方案并达到该领域量产的技术成熟度可能需要 7-10 年以上的时间。